半导体光刻工艺
ArF准分子激光的波长为193 nm,是目前深紫外(DUV)光刻机的核心光源,用于制造7 nm至45 nm制程的芯片。其高精度曝光能力推动了集成电路的微型化发展,而气体纯度直接决定光刻质量和良率。茂图润达提供超高纯度ArF混合气(氩/氟/氖),杂质含量低于1 ppm,满足ASML等设备厂商的严苛标准。
眼科屈光手术(LASIK)
ArF激光的短波长可实现角膜组织的精准切削,用于矫正近视、散光等视力问题。其非热效应特性减少了对周围组织的损伤,是飞秒激光技术的重要补充。
材料表面处理与科研
在精密加工领域,ArF激光用于微米级刻蚀、薄膜沉积;在科研中,其高能光子可用于激发化学反应或研究物质超快动力学过程。
化学性质:ArF是由氩气(Ar)和氟气(F₂)在高压放电条件下生成的准分子(激发态复合物),常态下不稳定,需即产即用。
物理性质:激光气体通常以混合气形式存储于高压钢瓶中(如Ar/F₂/Ne混合气),工作压力需严格控制在0.1-0.3 MPa。
危险性:氟气具有强腐蚀性和毒性,泄漏可能引发呼吸道灼伤;激光运行中产生的臭氧(O₃)需额外防护。
存储规范
使用专用钢瓶存放,避免与油脂、有机物接触,防止氟气反应引发爆炸。
存储环境需阴凉通风,温度不超过40℃,远离火源及震动源。
操作安全
配备气体泄漏监测仪,确保工作环境浓度低于OSHA限值(氟气TWA为0.1 ppm)。
操作人员需穿戴防腐蚀手套、护目镜及正压呼吸器,泄漏时立即启用应急吸收装置。
运输与供应商选择
运输需符合《危险货物国际道路运输公约》(ADR),钢瓶须固定并张贴腐蚀性气体标识。
茂图润达提供全程物流追踪与定制化包装方案,确保气体纯度稳定性和运输安全性。
作为国内领先的特种气体供应商,茂图润达通过以下技术保障ArF气体的卓越性能:
纯度控制:采用六级纯化工艺,确保氟化氩混合气的组分精度达99.999%,满足光刻级需求。
定制化服务:支持根据客户设备参数调整气体配比(如F₂浓度优化),提升激光输出效率。
安全支持:提供气体处理培训、泄漏应急方案及钢瓶定期检测服务,降低用户风险。
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